师的分析，基本可以确定，星海半导体的‘光刻厂’使用到EUV光源，7nm工艺领先我们两年！” 台电这边已经开始接明年的芯片订单。 台电明年也是7nm工艺。 只不过，台电还没拿到阿斯麦EUV光刻机，手里DUV光刻机的极限，基本就是7nm了。 虽然通过多重曝光等技术，使用DUV光刻机，也能做到更小的支撑工艺。 可多重曝光工艺，每多一次曝光，良品率就会降低，成本会大大提升。 所以台电并没有在多重曝光技术方面多做研究，明年会拿到阿斯麦EUV光刻机，后年就能直接使用EUV光源，可以做7nm、5nm甚至4nm、3nm工艺！！ 按照台电原本的计划，明年是DUV的7nm工艺……拿到EUv光刻机之后，后年同样是7n...